Penambahbaikan dan pengoptimuman proses peleburan plat tahan haus aloi karbon ultra rendah
Plat tahan haus aloi karbon ultra rendah ialah bahan penting untuk plat pelapik, plat penyekat, plat skrin dan pengikis pelbagai jentera pembinaan tahan haus. Bahan plat tahan haus sukar dalam teknologi peleburan, dan mempunyai keperluan kualiti tinggi untuk produk.
Untuk menghasilkan plat tahan haus berkualiti tinggi, pengeluar domestik dan asing terutamanya menggunakan relau arka elektrik + penapisan (AOD, VOD, LF, dll.) untuk pengeluaran, antaranya plat tahan haus aloi peleburan AOD telah menjadi teknologi terkemuka untuk penapisan plat tahan haus aloi. Pada masa ini, pengeluar domestik dan asing dalam pengeluaran siri bahan plat tahan haus ini, dalam pengeluaran dan proses pemprosesan seterusnya lebih mudah untuk menghasilkan keretakan, dalam penggunaan proses itu kadang-kadang akan muncul retakan. Oleh itu, untuk meningkatkan kualiti siri tuangan bahan ini, adalah perlu untuk meningkatkan prestasi keseluruhan tuangan dengan meningkatkan kualiti dalaman keluli cair.
Memandangkan masalah masa penyahkarbonan yang panjang, penggunaan oksigen yang tinggi, suhu mandi yang tinggi dan masa tinggal yang lama dalam proses asal peleburan plat tahan haus, kualiti keluli lebur telah dipertingkatkan dengan penambahbaikan proses dan relau penapisan AOD.
Seperti yang kita sedia maklum, kunci kepada penyahkarbonan oksigen ialah mengawal tindak balas oksigen dalam keluli cecair dengan unsur karbon, kromium, silikon, mangan dan lain-lain. Menurut prinsip metalurgi keluli dan penggunaan AOD, parameter proses utama peleburan plat tahan haus asal telah diperbaiki dan dioptimumkan.
Proses AOD adalah menggunakan gas argon dan oksigen untuk meniup keluli cair, dalam bentuk gas bercampur dari bahagian bawah relau ke dalam kolam lebur. Dalam proses meniup, tekanan separa CO dikurangkan oleh pencairan argon, yang sangat kondusif untuk penyahkarbonan dan pemeliharaan kromium plat tahan haus peleburan. Dalam peringkat pengurangan penapisan AOD, disebabkan oleh penambahan ferrosilicon dan penyahoksidaan sanga batu kapur, dan pada masa yang sama terdapat kacau argon yang sengit, keluli cecair boleh menjadi desulfurisasi yang mendalam; Kacau argon yang kuat dalam peringkat penapisan AOD boleh menggalakkan pemisahan dan pengapungan oksida dalam keluli cair, dan meningkatkan kebersihan keluli cair, jadi kandungan kemasukan dalam keluli cair adalah kurang, hampir tiada kemasukan zarah yang besar, dan bentuk kemasukan utama ditukar daripada mangan silikat dengan kaedah relau elektrik kepada kalsium silikat.
Selain itu, proses AOD juga boleh mengeluarkan plumbum daripada keluli semasa proses meniup. Sesetengah kajian telah menunjukkan bahawa plat tahan haus mengandungi sejumlah plumbum akan menjejaskan prestasi pemprosesan habanya, dan selepas tiupan AOD, ω (Pb) dalam keluli siap adalah kurang daripada 10×10-6, yang akan tidak menjejaskan prestasi keluli.
Melalui penambahbaikan teknologi plat tahan haus dan penggunaan AOD, keluli cair berkualiti tinggi diperolehi, dan penyahoksidaan komposit Si-Ca, Si-Fe telah diterima pakai, dan ω(O) keluli cair dikurangkan kepada 8{{ 5}}×10-6. Kapur aktif digunakan untuk mengukuhkan penyahsulfuran, yang mengurangkan ω (S) kepada kurang daripada 0.015%, sangat meningkatkan kebersihan keluli cair, dan memenuhi keperluan komposisi lebur dan indeks fizikokimia; Kandungan komponen gas berbahaya dan kemasukan oksida sfera (kadaran oksida sfera tidak lebih daripada 2.0) dalam keluli cair sangat berkurangan. Peningkatan ketulenan keluli cair meningkatkan rintangan retak matriks tuangan.
